气体限制组件及应用其之处理腔室;GAS CONFINER ASSEMBLY AND PROCESSING CHAMBER USING THE SAME

摘要

本揭露系有关于一种气体限制组件，藉由限制接近基板之边缘区域的气流及改变区域气流分布，气体限制组件系设计以减少不均匀沉积率。气体限制组件之材料、尺寸、形状及其他特性可基于处理需求及相关之沉积率来变化。于一实施例中，一种用于一处理腔室的气体限制组件包括一气体限制器，配置以减少基板之边缘区域上之气流且补偿高沉积率。气体限制组件亦包括一覆盖件，设置于气体限制器之下方。此覆盖件系配置以避免一基板支撑件暴露于电浆。