发明名称 使用包含光酸产生剂之抗反射涂覆组成物之形成图案之方法;METHOD FOR FORMING PATTERN USING ANTI-REFLECTIVE COATING COMPOSITION COMPRISING PHOTOACID GENERATOR
摘要 本发明系关于利用负调显影(NTD)形成图案之方法,其系透过在基板与光阻剂组成物层间形成包含光酸产生剂之抗反射涂覆组成物层而制备,因此展现改良之图案线宽(CD),并于曝光过程中透过彻底活化光阻剂组成物层之去封阻而防止光阻剂图案压毁之现象。
申请公布号 TW201541192 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW103146505 申请日期 2014.12.30
申请人 罗门哈斯电子材料韩国公司 ROHM AND HAAS ELECTRONIC MATERIALS KOREA LTD. 发明人 姜智薰 KANG, JIHOON;李惠元 LEE, HYE-WON;李承昱 LEE, SEUNG UK;李淑 LEE, SOOK;林载峰 LIM, JAE-BONG
分类号 G03F7/11(2006.01);G03F7/038(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/11(2006.01)
代理机构 代理人 洪武雄陈昭诚
主权项
地址 南韩 KR