| 发明名称 |
化学增幅型负型光阻组成物及图案形成方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI506361 |
申请公布日期 |
2015.11.01 |
| 申请号 |
TW104100353 |
申请日期 |
2015.01.07 |
| 申请人 |
信越化学工业股份有限公司 |
发明人 |
土门大将;增永惠一;渡边聪;大桥正树 |
| 分类号 |
G03F7/004;G03F7/029;G03F7/031;G03F7/038;G03F7/20;G03F7/32;G03F1/20;G03F1/22;H01L21/027 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
周良谋 新竹市东大路1段118号10楼;周良吉 新竹市东大路1段118号10楼 |
| 主权项 |
一种化学增幅型负型光阻组成物，其特征为含有：下列通式(1)或(2)表示之鎓盐、因酸作用成为硷不溶性之树脂、酸产生剂；
(式中，Rf表示氟原子或三氟甲基，M+表示1价阳离子；X表示O或CH2；k1表示0~2之整数；Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及Z6各自独立地表示氢原子或也可以经杂原子取代之碳数1~10之直链状、分支状或环状之1价烃基，该1价烃基中也可插入有杂原子)(式中，Rf、X、k1、Z1、Z2、Z5、Z6、M+同前述)。 |
| 地址 |
日本 |
