多元合金溅镀靶材、其制法及多元合金层;MULTI-COMPONENT ALLOY SPUTTERING TARGET, METHOD OF PRODUCING THE SAME, AND MULTI-COMPONENT ALLOY LAYER

摘要

本发明提供一种多元合金溅镀靶材及其制法，该多元合金溅镀靶材之组成为Cr(1-a-b)-Tia-Mb，M为铜、钼或其组合，a系大于1且小于35原子百分比，且b系大于10且小于或等于50原子百分比。依据本发明，藉由控制多元合金溅镀靶材中各成份之种类及含量比例，不仅能提升多元合金溅镀靶材之抗折强度，更能避免其于溅镀制程时发生颗粒掉落或异常电弧放电等情形。此外，本发明另提供一种由该多元合金溅镀靶材所溅镀而成之多元合金层，其因兼具附着性、导电性、抗腐蚀性及非晶态等特性，故能适用于作为磁记录媒体之附着层，藉此提升该磁记录媒体之磁记录密度。