发明名称 基板处理装置、保养方法及记录媒体
摘要
申请公布号 TWI506715 申请公布日期 2015.11.01
申请号 TW102109618 申请日期 2013.03.19
申请人 日立国际电气股份有限公司 发明人 米田秋彦;小谷浩;水口靖裕
分类号 H01L21/67 主分类号 H01L21/67
代理机构 代理人 赖经臣 台北市松山区南京东路3段346号11楼;宿希成 台北市松山区南京东路3段346号11楼
主权项 一种基板处理装置,系具备有:处理室,系处理既定片数各种基板;基板收容部,系载置有虚设载具,该虚设载具系至少收纳着上述各种基板之一种的虚设基板;记忆部,系储存着上述虚设载具从上述基板收容部上被搬出时的该虚设载具内之各虚设基板膜厚值;以及管理部,系若上述虚设载具再投入于上述基板收容部上,便根据上述记忆部所储存的膜厚值,再设定该虚设载具内的各虚设基板膜厚值。
地址 日本