硏磨用组成物

摘要

本发明系关于一种研磨用组成物，其系于研磨具有含钴元素之层的研磨对象物之用途使用之研磨用组成物，其包含钴溶解抑制剂、pH调整剂，且pH为不小于4且不大于12，前述钴溶解抑制剂系由具有醚键之有机化合物、具有羟基之有机化合物、具有羧基并且分子量为不小于130之有机化合物、及该等之盐所组成之群选出之至少一种。依据本发明，提供在研磨具有含钴元素之层的研磨对象物时，可抑制含钴元素之层溶解之研磨用组成物。