雷射产生电浆极紫外线光源之标靶材料递送保护系统及方法

主权项

一种用于产生极紫外线(EUV)光之装置，包含：一腔室；一源头，其会提供一靶料流输送标靶材料至该腔室内之一照射区域，该靶料流系沿一介于一标靶材料释放点与该照射区域之间的路径；位在该腔室内之一气体流，至少气体的一部份会以朝该靶料流的一方向流动；一系统，其会生成一雷射束，该雷射束在该照射区域照射该标靶材料来产生一电浆生成EUV辐射；及一屏罩，其系沿该靶料流的一部份置设，该屏罩具有屏蔽该靶料流避开该气体流的一第一屏罩部，及一相反的开放部。