发明名称 DEEP ULTRAVIOLET LIGHT CHEMICAL AMPLICATION TYPE POSITIVE PHOTORESIST
摘要 <p>본 발명은 심자외선 화학증폭형 양성 포토레지스트에 대해 개시하였다. 본 발명의 일 실시형태에 따른 심자외선 화학증폭형 양성 포토레지스트는 사이클로펜텐 피마르산, 디비닐에테르, 광산 발생제 및 유기용매를 포함한다. 본 발명에 따른 심자외선 화학증폭형 양성 포토레지스트는 양호한 감도와 양호한 투명성을 갖는다.</p>
申请公布号 KR101564808(B1) 申请公布日期 2015.10.30
申请号 KR20130131087 申请日期 2013.10.31
申请人 发明人
分类号 G03F7/028;G03F7/039;H01L21/027 主分类号 G03F7/028
代理机构 代理人
主权项
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