substrate processing apparatus

摘要

본 발명은 반도체 소자의 제조를 위한 기판처리장치에 관한 것으로, 본 발명의 기판처리장치는 기판안치수단 하부에 회전가능한 방사형의 가스공급수단을 설치하고, 이를 통해 퍼지가스를 공급함으로써 기판안치수단의 하부영역을 균일하게 퍼지한다. 따라서, 불순물의 발생에 의한 장비 효율의 저하나 장비의 손상을 막을 수 있다.