发明名称 METHOD AND APPARATUS FOR DIAGNOSING STATUS OF PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
摘要 <p>플라즈마 처리 설비의 상태 진단 방법과 장치가 개시된다. 진단 방법은 (a) 복수개의 속성 각각에 대하여 공정 진행 시간대별 표준값을 정의하는 단계와, (b) 복수개의 속성 각각에 대하여 공정 진행 시간대별 실제값을 산출하는 단계와, (c) 시간대별마다 복수개의 속성의 표준값에 대한 실제값 각각의 변동률을 산출하여 특정 속성에 대한 특정 시간대의 변동률로 정의하는 단계를 포함한다. 진단 장치는 상술한 진단 방법을 구현한다.</p>
申请公布号 KR101564834(B1) 申请公布日期 2015.10.30
申请号 KR20140034105 申请日期 2014.03.24
申请人 发明人
分类号 H05H1/00;H05H1/46 主分类号 H05H1/00
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利