| 摘要 |
<p>본 발명의 제1의 태양에 관한 연마용 조성물은 질소 함유 화합물 및 연마용 입자를 함유하고, pH가 1~7인 연마용 조성물이다. 연마용 조성물 중에 포함되는 질소 함유 화합물은 일반식: R-N(-R)-R(단, R, R, R은 각각 알킬기 또는 알킬기에 특정기가 추가된 기를 나타내고, R~R중 2개는 헤테로사이클의 일부를 구성할 수 있고, R~R중 2개는 공통이고 남은 1개로 헤테로사이클의 일부를 구성할 수 있음)으로 표현되는 구조를 가지고, 이외에 카르복실베타인형 양성 계면활성제, 술포베타인형 양성 계면활성제, 이미다졸린형 양성 계면활성제, 및 아민옥사이드형 양성 계면활성제로 이루어지는 군으로부터 선택되는 어느 하나를 바람직하게 포함할 수 있다. 본 발명의 제2의 태양에 관한 연마용 조성물은 수용성 고분자 및 연마용 입자를 함유하고, 산화제를 함유하지 않으며, pH가 1~8인 연마용 조성물이다.</p> |
