| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Anordnung zum reaktiven Magnetronsputtern in einer Vakuumkammer mit einem Rohrmagnetron mit einem Rohrtarget und einem einen Racetrack ausbildenden Magnetsystem, wobei der Racetrack einen in einer Substrattransportrichtung äußeren vorderen Rand und einen äußeren hinteren Rand aufweist, sowie Gaskanäle mit Gaseintrittsöffnungen über die Gasbestandteile in die Vakuumkammer eingelassen werden. Die Aufgabe der Erfindung, eine wesentlich vereinfachte und äußerst genaue Abscheidung von Mischschichten wie Oxinitriden bereitzustellen sowie den Einbau der weniger reaktiven Komponente des Prozessgases gegenüber dem Targetmaterial in die Schicht zu unterstützen, wird dadurch gelöst, dass das zum Material des Rohrtargets reaktivere Reaktivgas an dem Racetrack jeweils vor und hinter dem Rohrmagnetron über die Gaseintrittsöffnungen der Gaskanäle in die Vakuumkammer eingelassen wird und das weniger reaktive Reaktivgas von einer einer Substrattransportebene abgewandten Seite des Rohrmagnetrons derart eingelassen wird, dass es mit dem Material des Rohrtargets mittels Gasleitungsmitteln über eine längere Zeit in Kontakt tritt, als das reaktivere Reaktivgas mit dem Material des Rohrtargets.</p> |
