| 摘要 |
本発明は従来技術と比べ、マスクの使用量を減らすのみではなく、製造コストを低減し、製造工程も簡易化し、生産性及び製品の良品率を向上するセンサーの製造方法を提供する。当該製造方法は、ベース基板に第一回のパターニング工程によってソース電極及びドレイン電極のパターンと、データ線のパターンと、受信電極のパターンと、フォトダイオードのパターンと、透明電極のパターンと、を形成するステップと、第二回のパターニング工程によってオーミック層を形成するステップと、第三回のパターニング工程によって活性層を形成するステップと、第四回のパターニング工程によって透明電極の上方に貫通孔を備えるゲート絶縁層のパターンを形成するステップと、第五回のパターニング工程によってゲート電極のパターンと、ゲート線のパターンと、透明電極の上方で前記貫通孔を介して透明電極と接続するバイアス線のパターンと、を形成するステップと、を備える。 |
