发明名称 溶液体系下动态模式纳米刻蚀技术制造纳米图形的方法
摘要 本发明涉及一种溶液体系下动态模式纳米刻蚀技术制造纳米图形的方法,其特征在于,包括以下步骤:在溶液体系下对基底表面进行扫描成像,检测基底表面平整,无杂质,选定所需要的区域,其中成像溶液的使用量为100-150μL;将稀释好的丝素蛋白溶液加入到成像溶液中,用原子力显微镜针尖进行连续轻敲模式扫描成像,将蘸在针尖上的丝素蛋白纳米刻蚀到基底上,实现微米图形的制造;仍然用此针尖对所制造的微米图形进行再次扫描成像,检查所制造的图形。本方法弥补了现有技术的不足,可以实现在溶液下将生物大分子在物体表面上制备微米图形。
申请公布号 CN102992259B 申请公布日期 2015.10.28
申请号 CN201110272666.9 申请日期 2011.09.15
申请人 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 发明人 钟健;周涓;何丹农
分类号 B81C1/00(2006.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 上海东方易知识产权事务所 31121 代理人 唐莉莎
主权项 一种溶液体系下动态模式纳米刻蚀技术制造纳米图形的方法,其特征在于,包括以下步骤:第一步:在溶液体系下对基底表面进行扫描成像,检测基底表面平整,无杂质,选定所需要的区域,其中成像溶液的使用量为100‑150 μL;第二步:将稀释好的丝素蛋白溶液加入到成像溶液中,用原子力显微镜针尖进行连续轻敲模式扫描成像,将蘸在针尖上的丝素蛋白纳米刻蚀到基底上,实现微米图形的制造;第三步:仍然用此针尖对所制造的微米图形进行再次扫描成像,检查所制造的图形;所述丝素蛋白溶液最终浓度为0.006%;所述第二步操作可再次对不同区域进行连续扫描成像,通过调整X轴或Y轴的参数,转换到另外一处位置,进行连续的扫描成像,不断的转换X轴或Y轴的参数,进行微米图形的制造;所述连续扫描成像的速率在 0.1~2.0 Hz;所述原子力显微镜探针的针尖材质为硅,或氮化硅;所述成像溶液为水,或PBS缓冲液;环境温度控制在20‑30℃。
地址 200241 上海市闵行区江川东路28号