发明名称 | 半导体装置、显示模块和电子设备 | ||
摘要 | 本发明提供一种半导体装置、显示模块和电子设备,该半导体装置具有晶体管,所述晶体管包括:第一氧化物半导体层、在第一氧化物半导体层上的第二氧化物半导体层、在第二氧化物半导体层上的源电极、以及在第二氧化物半导体层上的漏电极,其中,第一氧化物半导体层包括作为沟道形成区的第一区域,第二氧化物半导体层包括与第一区域重叠的第二区域,第二氧化物半导体层包括与源电极接触的第三区域,第二氧化物半导体层包括与漏电极接触的第四区域,第一区域具有第一导电率,第二区域具有第二导电率,第三区域具有第三导电率,第四区域具有第四导电率,第二导电率低于第一导电率,第三导电率高于第二导电率,第四导电率高于第二导电率。 | ||
申请公布号 | CN103066130B | 申请公布日期 | 2015.10.28 |
申请号 | CN201310006973.1 | 申请日期 | 2010.03.05 |
申请人 | 株式会社半导体能源研究所 | 发明人 | 坂田淳一郎;广桥拓也;岸田英幸 |
分类号 | H01L29/786(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/786(2006.01)I |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人 | 王永刚 |
主权项 | 一种半导体装置,该半导体装置具有晶体管,所述晶体管包括:氧化物半导体层、在所述氧化物半导体层上的缓冲层、在所述缓冲层上的源电极、以及在所述缓冲层上的漏电极,其中,所述氧化物半导体层包括作为沟道形成区的第一区域,所述缓冲层包括与所述第一区域重叠的第二区域,所述缓冲层包括与所述源电极接触的第三区域,所述缓冲层包括与所述漏电极接触的第四区域,所述第一区域具有第一导电率,所述第二区域具有第二导电率,所述第三区域具有第三导电率,所述第四区域具有第四导电率,所述第二导电率低于所述第一导电率,所述第三导电率高于所述第二导电率,所述第四导电率高于所述第二导电率,所述第二区域由金属氧化物区域构成,并且所述第三区域和所述第四区域中的每一个由金属区域构成。 | ||
地址 | 日本神奈川 |