| 发明名称 | 一种用于激光干涉光刻系统的光栅相位调制器 | ||
| 摘要 | 一种用于激光干涉光刻系统的光栅相位调制器，由基板、光栅、电机和光栅定位器组成。光栅、电机和光栅定位器均安装于基板上；光栅为圆形或矩形，采用透射或反射型光栅。光束入射至光栅上产生衍射，当电机带动光栅相对于入射光束连续运动时，光栅衍射光将发生频移而实现光束相位调制。该光栅相位调制器相比于在干涉光刻系统应用中的电光相位调制器、微电机驱动反射镜座的相位调制的具有相位调制速度快、调节精度高、调节范围宽等优点，相比在干涉光刻系统应用中的声光调制器，通过合理布置光学结构则不会影响系统精度、图形对比度、焦深、焦斑大小等，且系统光路简洁，最终实现干涉光刻系统整体性能的提升。 | ||
| 申请公布号 | CN103064262B | 申请公布日期 | 2015.10.28 |
| 申请号 | CN201310017800.X | 申请日期 | 2013.01.17 |
| 申请人 | 清华大学 | 发明人 | 朱煜;张鸣;王磊杰;成荣;杨开明;刘召;胡金春;尹文生;穆海华;胡楚雄;徐登峰 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B26/06(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 | 代理人 | 邸更岩 |
| 主权项 | 一种用于激光干涉光刻系统的光栅相位调制器，其特征在于：所述的光栅相位调制器为圆形光栅相位调制器(1)，圆形光栅相位调制器(1)包括圆形基板(11)、环形光栅(12)、旋转电机(13)和光栅定位器(4)；环形光栅(12)沿圆周方向安装于圆形基板(11)上，且安装多条环形光栅，多条环形光栅具有不同栅线密度；当入射光束入射到不同的环形光栅上时，同一级次的衍射光的频率将不同，从而实现变频相位调制；旋转电机(13)的输出轴与圆形基板(11)相连接，光栅定位器(4)安装于圆形基板(11)上。 | ||
| 地址 | 100084 北京市海淀区100084信箱82分箱清华大学专利办公室 | ||