利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法

摘要

本发明属于电子束光刻技术领域，具体为一种利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法。本发明步骤包括：首先利用Beamer软件形成曝光文件，而后在硅片表面旋涂上一层光刻胶，利用电子束光刻，经过显影后得到微纳尺寸的微型照片。本发明利用电子束光刻曝光光刻胶，显影后不同厚度光刻胶具有不同的黑白灰度，从而生成微纳尺寸的微型照片。本发明方法对微纳图形结构的形貌可控，生成的微型照片具有纳米级别的分辨率，并可实现大面积制造。

主权项

利用灰度曝光生成微纳尺寸微型照片的方法，其特征在于具体步骤如下：（1）利用Beamer软件形成曝光文件；（2）清洗硅衬底，在衬底上旋涂2‑5微米厚的PMMA胶，并烘烤使之硬化，烘烤温度为170‑190摄氏度，时间为30‑60分钟；（3）使用电子束光刻机对于设计好的图形进行曝光；（4）在22‑24摄氏度的1:1‑1:3的MIBK与IPA溶液中显影1‑5分钟，随后立刻在IPA溶液中冲洗30‑60秒。