发明名称 一种磁流变抛光设备的磁场发生装置
摘要 本发明公开了一种磁流变抛光设备的磁场发生装置,包括多个可产生梯度磁场的由极性相反的两个电磁极组成的电磁极组,构成所述多个电磁极组的电磁极采用成环形布置且两相邻磁极的极性相反的三角状磁极。本发明用于磁流变液加工多自由度运动的工件,能够在一次装夹下,同时对一个或多个工件的外表面进行抛光加工,其外表面可以是平面、弧面或复杂曲面。本发明通过试用证明:可以很有效的解决复杂形面难以抛光的难题,可减少工件加工的工序,有效提高抛光效率。
申请公布号 CN104999344A 申请公布日期 2015.10.28
申请号 CN201510502499.0 申请日期 2015.08.17
申请人 宇环数控机床股份有限公司 发明人 许亮;陈永福;许君;李智;危峰
分类号 B24B1/00(2006.01)I;H01F7/00(2006.01)I 主分类号 B24B1/00(2006.01)I
代理机构 长沙新裕知识产权代理有限公司 43210 代理人 刘熙
主权项 一种磁流变抛光设备的磁场发生装置,其特征是包括多个可产生梯度磁场的由极性相反的两个电磁极组成的电磁极组,构成所述多个电磁极组的电磁极采用成环形布置且两相邻磁极的极性相反的三角状磁极。
地址 410323 湖南省长沙市浏阳制造产业基地纬二路
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