| 发明名称 | 具有增强的表面轮廓和改善的性能的硅溅射靶及其制造方法 | ||
| 摘要 | 提供了溅射靶组件以及所述溅射靶组件的制造方法。所述溅射靶组件可具有靶坯。所述靶坯可具有至少一个厚度T1的平坦表面和厚度T2的下凹中心，其中T2小于T1。 | ||
| 申请公布号 | CN105008582A | 申请公布日期 | 2015.10.28 |
| 申请号 | CN201480011876.4 | 申请日期 | 2014.01.03 |
| 申请人 | 东曹SMD有限公司 | 发明人 | 袁永文;E.Y.伊万诺夫 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;B23K20/00(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 宋莉 |
| 主权项 | 包含靶坯和背衬板的溅射靶组件，其中，所述靶坯具有至少一个厚度T1的平坦表面、厚度T2的下凹中心且其中T2小于T1。 | ||
| 地址 | 美国俄亥俄州 | ||