METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK BLANK, AND METHOD FOR MANUFACTURING REFLECTIVE MASK

摘要

본 발명은 다층 반사막의 오염 리스크나 세정 데미지가 없는, 결함의 좌표 관리를 고정밀도로 실시하기 위한 기준 마크를 형성한 반사형 마스크 블랭크를 제공한다. 본 발명에서는 기판상에 EUV광을 반사하는 다층 반사막을 성막하여 다층 반사막 부착 기판을 형성하고, 이 다층 반사막 부착 기판에 대하여 결함검사를 실시한다. 상기 다층 반사막상에 EUV광을 흡수하는 흡수체막을 성막하고, 해당 흡수체막에 결함 정보에 있어서의 결함 위치의 기준이 되는 기준 마크를 형성하여 반사형 마스크 블랭크를 형성한다. 상기 기준 마크를 기준으로 하여 반사형 마스크 블랭크의 결함검사를 실시한다. 다층 반사막 부착 기판과 반사형 마스크 블랭크의 각 결함검사 데이터를 대조하여 기준 마크를 기준으로 한 다층 반사막 부착 기판의 결함검사 데이터를 취득한다.