| 摘要 |
EUV 광원(2)은 투영 리소그래피용 투영 노광 장치를 위한 EUV 조명광의 사용된 출력 빔(3)을 생성하기 위한 역할을 한다. 광원(2)은 EUV 원출력 빔(30)을 생성하는 EUV 생성 장치(2c)를 갖는다. 원출력 빔(30)은 원형 또는 타원형 편광(31)을 갖는다. 광원(2)의 사용된 편광 설정 장치(32)는, 사용된 출력 빔(3)의 편광을 설정하려는 목적으로, 편광의 방향에 관하여 선형으로 편광하는 효과(34)를 원출력 빔(30)에 가한다. 사용된 편광 설정 장치(32)는 원출력 빔(30)의 빔 경로에 배열되는 적어도 하나의 위상 지연 부품(37)를 갖는다. 상기 적어도 하나의 위상 지연 부품은 원출력 빔(30)의 편광을 형성하도록 중첩되는 2개의 선형 편광 파 사이에서 순 위상 이동을 생성하고, 이것은 순 위상 이동이 EUV 조명 광의 사용된 출력 빔(3)의 파장(λ)의 절반 미만이다. 결과는 해상도 최적화된 조명에 대한 개선된 출력 빔을 갖는 EUV 광원이다. |
