SUBSTRATE PROCESSING DEVICE AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

摘要

실시형태에 따른 기판 처리 장치(1)는, 기판(W)을 지지하는 테이블(4)과, 그 테이블(4) 상의 기판(W)의 표면에 휘발성 용매를 공급하는 용매 공급부(8)와, 휘발성 용매가 공급된 기판(W)에 대하여 광을 조사하여, 그 휘발성 용매가 공급된 기판(W)의 표면에 기층을 생기게 하여 휘발성 용매를 액적화시키도록 기판(W)을 가열하는 가열부로서 기능하는 조사부(10)를 구비한다. 이에 따라, 패턴의 붕괴를 억제하면서 양호한 기판 건조를 행할 수 있다.