POLYMERS FOR USE IN PHOTORESIST COMPOSITIONS

摘要

(i) 하기 단위로부터 선택되는 2 이상의 반복 단위:[상기 식 중, R, R, R및 R각각은 개별적으로 수소 또는 C알킬로부터 선택되고; R는 C알킬임]; 및 (ⅱ) 하기 단위로부터 선택되는 1 이상의 추가 반복 단위:[상기 식 중, R, R, R, R및 R각각은 개별적으로 수소 또는 C알킬로부터 선택되고 n은 0∼3의 수임] 를 포함하는 중합체는 포토레지스트 조성물의 성분으로서 유용하다.