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发明名称 COMBINATORIAL PLASMA ENHANCED DEPOSITION TECHNIQUES
摘要 <p>기판의 복수개의 영역들을 지정하는 단계, 제 1 전구체를 상기 복수개의 영역들의 적어도 제 1 영역에 제공하는 단계, 상기 제 1 영역에 제 1 플라즈마를 제공하여 상기 제 1 전구체를 사용하여 상기 제 1 영역상에 형성된 제 1 물질을 증착시키는 단계를 포함하되, 상기 제 1 물질은 상기 기판의 제 2 영역상에 형성된 제 2 물질과는 상이한 것을 특징으로 하는 결합식 플라즈마 강화 증착 기법이 기술된다.</p>
申请公布号 KR101563030(B1) 申请公布日期 2015.10.23
申请号 KR20107026997 申请日期 2009.05.01
申请人 发明人
分类号 H01L21/205 主分类号 H01L21/205
代理机构 代理人
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