| 摘要 |
<p>Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Ausbildung einer Beschichtung auf einer Substratoberfläche, bei der innerhalb einer Vakuumkammer von einem als Kathode geschalteten Target, das aus einem chemischen Element, mit dem die Beschichtung gebildet wird, besteht, mittels einer elektrischen Bogenentladung ein Plasma generiert. Das Plasma wird in Richtung auf die zu beschichtende Substratoberfläche beschleunigt. Dabei ist zwischen dem Target und der Substratoberfläche eine Einrichtung zur Erhöhung der Energiedichte des Plasmas vorhanden, in und/oder mit der durch Einwirkung elektromagnetischer oder Korpuskularstrahlung oder elektrischer Wechselfelder eine Erhöhung der Temperatur des Plasma erreichbar ist. Das Plasma trifft auf direktem, kürzestem Weg ausgehend vom Target auf die Substratoberfläche auf.</p> |
