用于形成光阻保护膜之聚合物、用于形成光阻保护膜之组成物以及使用该组成物形成半导体元件之图案的方法

主权项

一种用于形成光阻保护膜的聚合物，该聚合物为一藉下式2而代表之化合物：
其中R1为氢原子(H)、氟原子(F)、甲基(-CH3)、C1-C20氟烷基，或一C1-C5羟烷基，R2为C1-C10直链或分支链伸烷基或亚烷基、或C5-C10环伸烷基或环亚烷基，
X为，其中n系0至5之整数且*表
示排除X后之式2的残留分子团，且m(其系为X之化学计量系数)为1或2，R3为一含至少一羟基(-OH)或羧基(-COOH)之C1-C25直链或分支链烷基或C5-C25环烷基，p为1至3之整数，且a及b为其等之对应重覆单元的系数，其中以该聚合物之重量计，该藉系数a而表示之重覆单元的数量在1至99重量%之范围内，且以该聚合物之重量计，该藉系数b而表示之重覆单元之含量在1至99重量%的范围内。