发明名称 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 <p>광원(1)으로부터 공급되는 조명광에 의해서 피조사면(M)을 조명하는 조명 광학 시스템은, 조명 광학 시스템의 광로 내에 배치되고, 조명 광학 시스템의 동공 위치 또는 그 동공 위치와 광학적으로 공액인 위치에서의 소망하는 광강도 분포를 형성하는 공간광 변조기(S1)와, 조명광이 입사하는 공간광 변조기의 입사측에 배치되는 확산기(4)를 구비한다.</p>
申请公布号 KR101562073(B1) 申请公布日期 2015.10.21
申请号 KR20107010662 申请日期 2008.09.12
申请人 发明人
分类号 G02B26/00;G02B27/18;G03F7/20 主分类号 G02B26/00
代理机构 代理人
主权项
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