| 发明名称 |
ＦｅＰｔ系溅镀靶及其制造方法 |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
TWI504768 |
申请公布日期 |
2015.10.21 |
| 申请号 |
TW102100716 |
申请日期 |
2013.01.09 |
| 申请人 |
田中贵金属工业股份有限公司 |
发明人 |
宫下敬史;后藤康之;山本孝充;栉引了辅;青野雅広;西浦正紘 |
| 分类号 |
C23C14/14;C23C14/34;B22F3/14 |
主分类号 |
C23C14/14 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
一种FePt系溅镀靶，其系含有Fe、Pt及金属氧化物，进一步含有Fe、Pt以外之1种以上的金属元素之FePt系溅镀靶，其特征为具有如下述般之构造：含有Pt 40at%以上且未达60at%，Fe、Pt以外之前述1种以上的金属元素多于0at%且20at%以下，且Pt与前述1种以上的金属元素之合计为60at%以下，残部为由Fe及不可避免的杂质所构成的FePt系合金相、与包含不可避免的杂质之金属氧化物相为相互分散之构造；其中，相对于靶整体之前述金属氧化物之含有量为20vol%以上且40vol%以下。
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| 地址 |
日本 |
