发明名称 新颖含氮杂环化合物及使用其之有机电子装置
摘要
申请公布号 TWI504592 申请公布日期 2015.10.21
申请号 TW102113024 申请日期 2013.04.12
申请人 LG化学股份有限公司 发明人 李东勋;朴胎润;洪性佶;张焚在;千民承;金东埴;姜敏英
分类号 C07D235/06;C07D405/14;C07D409/14;C07D401/14;H01L51/00 主分类号 C07D235/06
代理机构 代理人 叶璟宗 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;詹富闵 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1;郑婷文 台北市中正区罗斯福路2段100号7楼之1
主权项 一种含氮杂环化合物,系如下列式1所示: 于式1中,R1至R8系彼此相同或不同,且各自为:氢、氘、卤素基、腈基、硝基、羟基、经取代或未经取代之烷基、经取代或未经取代之环烷基、经取代或未经取代之烷氧基、经取代或未经取代之芳氧基、经取代或未经取代之烷硫基(alkylthioxy group)、经取代或未经取代之芳硫基(arylthioxy group)、经取代或未经取代之烷基磺氧基、经取代或未经取代之芳基磺氧基(arylsulfoxy)、经取代或未经取代之烯基、经取代或未经取代之矽烷基(silyl group)、经取代或未经取代之硼基(boron group)、经取代或未经取代之烷胺基(alkylamine group)、经取代或未经取代之芳胺基(arylamine group)、经取代或未经取代之杂环芳胺基(heteroarylamine group)、经取代或未经取代之芳基、经取代或未经取代之茀基、经取代或未经取代之咔唑基、或包含一个以上的氮(N)、氧(O)及硫(S)原子之经取代或未经取代之杂环基,或R1至R8之两个以上的相邻基形成一单环或一多环; Alk1及Alk2系彼此相同或不同且各自为:经取代或未经取代之烷基、或经取代或未经取代之环烷基;L1及L2系彼此相同或不同且各自为:一直接键(direct bond)、氧、硫、经取代或未经取代之氮、经取代或未经取代之磷、经取代或未经取代之伸芳基(arylene group)、经取代或未经取代之伸烷基(alkenylene group)、经取代或未经取代之伸茀基(fluorenylene group)、经取代或未经取代之伸咔唑基(carbazolylene group)、或包含一个以上氮、氧及硫原子之经取代或未经取代之伸杂芳基(heteroarylene group);n为1至3之整数,m为1至3之整数,且当n及m系各存在两个以上时,在括号中的取代基系彼此相同或不同;A系选自下列的取代基:o、p、q、r、s、t、v、及w各为0至3之整数,及u为0至2的整数, X为-O-、或-S-;R11至R17、R24及R25系彼此相同或不同,且各自为:氢、氘、卤素基、腈基、硝基、羟基、经取代或未经取代之烷基、经取代或未经取代之环烷基、经取代或未经取代之烷氧基、经取代或未经取代之芳氧基、经取代或未经取代之烷硫基、经取代或未经取代之芳硫基、经取代或未经取代之烷基磺氧基、经取代或未经取代之芳基磺氧基、经取代或未经取代之烯基、经取代或未经取代之矽烷基、经取代或未经取代之硼基、经取代或未经取代之烷胺基、经取代或未经取代之芳胺基、经取代或未经取代之杂环芳胺基、经取代或未经取代之芳基、经取代或未经取代之茀基、经取代或未经取代之咔唑基、或包含一个以上氮、氧及硫原子之经取代或未经取代之杂环基;以及R22及R23系彼此相同或不同且各自为:氢或经取代或未经取代之烷基。
地址 南韩