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经营范围
发明名称
EUV微影光学构件用基材、其制造方法、附有多层反射膜之基材之制造方法及EUVL用反射型光罩之制造方法
摘要
申请公布号
TWI505017
申请公布日期
2015.10.21
申请号
TW100108963
申请日期
2011.03.16
申请人
旭硝子股份有限公司
发明人
中西博志;生田顺亮
分类号
G03F1/00
主分类号
G03F1/00
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
一种EUVL光学构件用基材之制造方法,其系依序实施如下步骤而获得EUVL光学构件用基材:预研磨步骤,其系对玻璃基板之成膜面及该成膜面之背面进行预研磨;测定步骤,其系测定玻璃基板之最大板厚分布与平坦度;及修正研磨步骤,其系基于上述测定步骤中之测定结果仅对上述玻璃基板之背面进行局部研磨。
地址
日本
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