发明名称 成膜装置
摘要 本发明提供成膜装置,包括:旋转台,其设于真空容器内,在其上表面上沿周向具有用于载置基板的多个基板载置区域,并且用于使该基板载置区域旋转;气体喷嘴,其以从基板载置区域的内缘延伸到外缘的方式设置,沿其长度方向形成有用于喷出气体的气体喷出口;排气口,其设于气体喷嘴的靠旋转台的旋转方向侧且比旋转台的外缘靠外侧的位置,用于排出气体;限制构件,其包括壁部,该壁部配置于气体喷嘴与排气口之间,设置为在基板载置区域载置有基板时能够供气体从该壁部与该基板之间通过的间隙从基板载置区域的内缘延伸到外缘,并且,该壁部在从基板载置区域的内缘到外缘之间的至少一部分区域将气体喷嘴与排气口之间隔开。
申请公布号 CN102953047B 申请公布日期 2015.10.21
申请号 CN201210295000.X 申请日期 2012.08.17
申请人 东京毅力科创株式会社 发明人 加藤寿;牛窪繁博;菱谷克幸
分类号 C23C16/44(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I;C23C16/46(2006.01)I;H01L21/285(2006.01)I 主分类号 C23C16/44(2006.01)I
代理机构 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人 刘新宇;张会华
主权项 一种成膜装置,其在真空容器内向基板供给气体以在上述基板上形成薄膜,其中,该成膜装置包括:旋转台,其设于上述真空容器内,在其上表面上沿周向具有用于载置基板的多个基板载置区域,并且,该旋转台用于使该基板载置区域旋转;气体喷嘴,其以从上述基板载置区域的内缘延伸到外缘的方式设置,沿其长度方向形成有分别用于喷出气体的多个气体喷出口;排气口,其设于上述气体喷嘴的靠上述旋转台的旋转方向侧且比上述旋转台的外缘靠外侧的位置,用于排出上述气体;限制构件,其包括壁部,该壁部配置于上述气体喷嘴与上述排气口之间,该壁部设置为在上述基板载置区域上载置有基板时能够供气体从该壁部与该基板之间通过的间隙从上述基板载置区域的内缘延伸到外缘,并且,该壁部在从上述基板载置区域的内缘到外缘之间的至少一部分区域将上述气体喷嘴与上述排气口之间隔开。
地址 日本东京都