| 发明名称 | 用于EUV-光刻中的镜面基材的由TiO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>玻璃构成的坯料及其制造方法 | ||
| 摘要 | 为了提供用于EUV-光刻中的镜面基材的由TiO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>玻璃构成的坯料，其中对于优化热膨胀系数分布和因此过零温度T<sub>ZC</sub>分布的调适需求是小的，在920℃至970℃的假想温度T<sub>f</sub>平均值下，所述TiO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>玻璃具有其过零温度T<sub>ZC</sub>对于假想温度T<sub>f</sub>的依赖性，其以微商dT<sub>zc</sub>/dT<sub>f</sub>表示小于0.3。 | ||
| 申请公布号 | CN104995557A | 申请公布日期 | 2015.10.21 |
| 申请号 | CN201480008162.8 | 申请日期 | 2014.02.04 |
| 申请人 | 赫罗伊斯石英玻璃股份有限两合公司 | 发明人 | S.托马斯;K.贝克;S.奥克斯 |
| 分类号 | G03B19/14(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;C03B32/00(2006.01)I;C03B20/00(2006.01)I;C03C3/06(2006.01)I;G02B5/08(2006.01)I | 主分类号 | G03B19/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 周铁;石克虎 |
| 主权项 | 用于EUV‑光刻中的镜面基材的由TiO<sub>2</sub>‑SiO<sub>2</sub>玻璃构成的坯料，其特征在于，在920℃至970℃的假想温度T<sub>f </sub>平均值下，所述TiO<sub>2</sub>‑SiO<sub>2</sub>玻璃具有其过零温度T<sub>ZC</sub>对于假想温度T<sub>f</sub>的依赖性，其以微商dT<sub>zc</sub>/dT<sub>f</sub>表示小于0.3。 | ||
| 地址 | 德国哈瑙 | ||