发明名称 正型光阻组成物,光阻图型之形成方法,高分子化合物
摘要
申请公布号 TWI505033 申请公布日期 2015.10.21
申请号 TW099146331 申请日期 2010.12.28
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 平野智之;盐野大寿;新井雅俊
分类号 G03F7/039;C08F220/18;C08F220/28;C08F220/30;C08F220/38 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种正型光阻组成物,其为含有经由酸之作用而增大对硷显影液之溶解性,且,经由曝光会产生酸之基材成份(A’)之正型光阻组成物,其特征为,前述基材成份(A’)为含有具有:下述通式(a0-1)所表示之结构单位(a0-1),与经由曝光会产生酸之具有下述通式(a0-2-10)或(a0-2-20)所表示之基的结构单位(a0-2),与由含有酸解离性溶解抑制基之丙烯酸酯所衍生之结构单位(a1)之树脂成份(A1), 〔式中,R1为氢原子、碳数1~5之烷基或碳数1~5之卤化烷基,R2为可具有取代基之2价烃基或含有杂原子之2价键结基,R3为环骨架中含有-SO2-之环式基〕;〔式中,A为单键、可具有取代基之2价烃基或含有杂原子之2价键结基,R4为可具有取代基之碳数6~20之伸芳基,R5、R6各自独立地为可具有取代基之碳数6~20之芳基或碳数1~10之直链状、支链状或环状之烷基,R5、R6可相互键结并与式中之硫原子共同形成环亦可,X-为对阴离子、Rf1、Rf2各自独立地为氢原子、碳数1~5之烷基、氟原子,或碳数1~5之氟化烷基,Rf1、Rf2之中之至少1个为氟原子或碳数1~5之氟化烷基,n为1~8之整数,Mm+为对阳离子,m为1~3之整数〕。
地址 日本