发明名称 |
真空炉改进结构 |
摘要 |
本实用新型涉及一种真空炉改进结构。现有的真空炉炉体在气体流量设定时,哪怕气体流量设定再大在设备中间位置的气体量都偏少,导致部品的一致性很差,不同位置层与层气体渗透量不一致,影响制品烧结后尺寸。本实用新型包括炉体,炉体内呈上下设置多个放料板,上下相邻的放料板之间形成间隔通道,其特征在于所述的炉体内设置多个引流门板,所述的引流门板相对一侧的炉体上开有进气孔,所述的引流门板上正对间隔通道处开有导流孔。本实用新型通过增加带进气孔的引流门板,使其炉内毎一层都有气体且气体循环更加均匀。大大减少了气体的使用量同时进气的效果也有效改善,降低了生产成本,提高了成品质量。 |
申请公布号 |
CN204718366U |
申请公布日期 |
2015.10.21 |
申请号 |
CN201520407114.8 |
申请日期 |
2015.06.12 |
申请人 |
杭州铭赫科技有限公司 |
发明人 |
唐群 |
分类号 |
F27B5/05(2006.01)I;F27B5/16(2006.01)I |
主分类号 |
F27B5/05(2006.01)I |
代理机构 |
杭州君度专利代理事务所(特殊普通合伙) 33240 |
代理人 |
王桂名 |
主权项 |
真空炉改进结构,包括炉体,炉体内呈上下设置多个放料板,上下相邻的放料板之间形成间隔通道,其特征在于所述的炉体内设置多个引流门板,所述的引流门板相对一侧的炉体上开有进气孔,所述的引流门板上正对间隔通道处开有导流孔。 |
地址 |
310018 浙江省杭州市经济开发区16号大街1号1幢2层 |