多光束干涉光刻辅助曝光装置

摘要

本发明公开了一种多光束干涉光刻辅助曝光装置，包括底座、光阑吸附底座、辅助曝光光阑、基片旋转台，所述光阑吸附底座、基片旋转台设置在底座上，所述辅助曝光光阑设置在光阑吸附底座上，所述辅助曝光光阑上设置有开孔，所述基片旋转台上设置有第一读数指针，并且所述基片旋转台靠近光阑吸附底座的侧面设置有基片吸盘，所述基片吸盘中心设置有抽气孔。本发明结构简单合理，便于基片安装调整，能够实现基片不同位置的单、多次曝光，提高多次曝光的重合度，调整无需碰触基片，减少基片污损概率，辅助曝光光阑更换方便，适用于不同的需求。

主权项

一种多光束干涉光刻辅助曝光装置，其特征在于，该装置包括底座（1）、光阑吸附底座（2）、辅助曝光光阑（3）、基片旋转台（9）所述光阑吸附底座（2）、基片旋转台（9）设置在底座（1）上，所述辅助曝光光阑（3）设置在光阑吸附底座（2）上，所述辅助曝光光阑（3）上设置有开孔（4），所述基片旋转台（9）上设置有第一读数指针（5），并且所述基片旋转台（9）靠近光阑吸附底座（2）的侧面设置有基片吸盘（7），所述基片吸盘（7）中心设置有抽气孔（8）。