发明名称 一种周期性碗状结构模板及其制备方法
摘要 本发明公开一种周期性碗状结构模板及其制备方法,包括:在基底上沉积二氧化硅掩膜层,在其上旋涂光刻胶,制备周期性微纳米光刻胶点阵图形,在光刻胶结构上沉积一层金属薄膜,经过剥离后得到金属孔阵图形,再以金属孔阵结构为掩膜,采用湿法腐蚀技术形成二氧化硅的碗状阵列结构,最后除去金属掩膜。本发明制备的周期性碗状模板面积大,结构均匀完整,在制备图形衬底、光子晶体、表面粗化、表面制绒和微纳米器件等方面有很好的应用前景,能广泛应用于LED、太阳能电池、光子晶体、量子器件等方面,或作为基底材料的刻蚀掩膜层,用于其它微纳米结构的制造。
申请公布号 CN104986725A 申请公布日期 2015.10.21
申请号 CN201510414119.8 申请日期 2015.07.15
申请人 桂林电子科技大学 发明人 李海鸥;徐文俊;李思敏;李琦;首照宇;高喜;肖功利
分类号 B81C1/00(2006.01)I;B81B7/04(2006.01)I 主分类号 B81C1/00(2006.01)I
代理机构 桂林市持衡专利商标事务所有限公司 45107 代理人 陈跃琳
主权项 一种周期性碗状结构模板及其制备方法,其特征是,包括如下步骤:步骤1,在基底(1)上沉积二氧化硅(2),形成衬底;步骤2,在二氧化硅(2)之上旋涂光刻胶(3),采用微纳米光刻方法在衬底上制备周期性微纳米光刻胶(3)点阵图形,形成带有光刻胶(3)的基体;步骤3,在带有光刻胶(3)的基体的上方,即周期性光刻胶(3)点阵图形及其二氧化硅(2)上沉积一层金属薄膜(4),形成带有金属薄膜(4)的基体;步骤4,带有金属薄膜(4)的基体经过剥离后,其上的光刻胶(3)点阵图形被反转为金属薄膜(4)孔阵图形,得到带有周期性金属薄膜(4)孔阵图形的基底(1);步骤5,将带有周期性金属薄膜(4)孔阵图形的基底(1)放入腐蚀液中进行腐蚀,在二氧化硅(2)上部形成多个碗状的金属孔(5),且这些金属孔(5)在二氧化硅(2)上部呈周期性排布,得到具有周期性碗状金属孔(5)的基底(1);步骤6,去除具有周期性碗状金属孔(5)的基底(1)上的金属薄膜(4),清洁基底(1),得到周期性碗状结构模板。
地址 541004 广西壮族自治区桂林市金鸡路1号