液浸构件和曝光装置

摘要

液浸构件用在隔着光学构件的射出面(12)和基板(P)之间的第一液体通过曝光用光对基板进行曝光的液浸曝光装置中，能够在能够于光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间。液浸构件包括配置于光学构件的周围的至少一部分的第一构件(21)、能够与物体相对且能够在曝光用光的光路的外侧移动的第二构件(22)以及保护光学构件的保护部(部分211、壁部50)。保护部减小光学构件承受的来自液浸空间的液体的压力的波动。

主权项

一种液浸构件，其用在液浸曝光装置中，所述液浸曝光装置隔着光学构件的射出面和基板之间的第一液体通过曝光用光对所述基板进行曝光，能够在能够于所述光学构件的下方移动的物体之上形成液浸空间，其中，该液浸构件包括：第一构件，其配置于所述光学构件的周围的至少一部分；第二构件，其能够与所述物体相对，且能够在所述曝光用光的光路的外侧移动；和保护部，其保护所述光学构件，所述保护部使所述光学构件承受的来自所述液浸空间的液体的压力的波动减小。