发明名称 |
一种磁控管以及应用该磁控管的磁控溅射设备 |
摘要 |
本发明提供一种磁控管以及应用该磁控管的磁控溅射设备,包括极性相反的外磁极和内磁极,在垂直于所述外磁极的中心线的截面上,所述外磁极为闭合的环形,所述内磁极设置在所述环形的外磁极所围绕而成的腔体内,其中,所述内磁极包括三个以上子内磁极,所述三个以上子内磁极围绕所述外磁极的中心线设置,从而在所述外磁极和内磁极之间形成与所述子内磁极数量对应地通道。该磁控管可以提高靶材腐蚀的均匀性,从而提高靶材的利用率。 |
申请公布号 |
CN103177917B |
申请公布日期 |
2015.10.21 |
申请号 |
CN201110433434.7 |
申请日期 |
2011.12.21 |
申请人 |
北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
发明人 |
杨玉杰;耿波 |
分类号 |
H01J25/50(2006.01)I;H01J23/02(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I |
主分类号 |
H01J25/50(2006.01)I |
代理机构 |
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 |
代理人 |
张天舒;陈源 |
主权项 |
一种磁控管,包括极性相反的外磁极和内磁极,在垂直于所述外磁极的中心线的截面上,所述外磁极为闭合的环形,所述内磁极设置在所述环形的外磁极所围绕而成的腔体内,其特征在于,所述内磁极包括三个以上子内磁极,所述三个以上子内磁极围绕所述外磁极的中心线设置,从而在所述外磁极和内磁极之间形成与所述子内磁极数量对应的不连续通道。 |
地址 |
100176 北京市朝阳区北京经济技术开发区文昌大道8号 |