发明名称 SURFACE POSITION DETECTING APPARATUS SURFACE POSITION DETECTING METHOD EXPOSURE APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD
摘要 <p>물체의 소정의 면의 위치 정보를 검출하는 면 위치 검출 장치는, 소정의 면(14a)에 대하여 경사 방향으로부터 빛을 투사하는 제 1 광학 시스템(51E)과, 물체로부터의 빛을 수광하는 제 2 광학 시스템(52E)과, 제 2 광학 시스템(52E)으로부터의 빛을 수광하고, 수광된 빛에 근거하여, 소정의 면에 교차하는 방향에서의 소정의 면의 위치 정보를 검출하는 검출 시스템(13)과, 제 1 및 제 2 광학 시스템(51E, 52E)중 적어도 하나의 광로내에 배치되고, 제 2 광학 시스템(52E)으로부터의 빛에 있어서의 물체의 소정의 면(14a) 이외의 면을 거쳐서 이동하는 빛중 다른 부분 사이에 위상차를 부여하는 위상차 부여 시스템을 포함한다.</p>
申请公布号 KR101562074(B1) 申请公布日期 2015.10.21
申请号 KR20107012982 申请日期 2008.11.13
申请人 发明人
分类号 G03F7/20;G03F9/00;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
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