发明名称 具有MOM电容器的集成电路及其制造方法
摘要 一种集成电路,可以包括与诸如finFET的其他器件同时形成的MOM电容器。形成在基板上的介电层中具有第一半导体鳍片和第二半导体鳍片。去除鳍片的相应顶部以在介电层中形成相应的凹槽。第一电极和第二电极以及中间的介电层形成MOM电容器。本发明提供具有MOM电容器的集成电路及其制造方法。
申请公布号 CN103094275B 申请公布日期 2015.10.21
申请号 CN201210041603.7 申请日期 2012.02.21
申请人 台湾积体电路制造股份有限公司 发明人 刘继文;王昭雄
分类号 H01L27/02(2006.01)I;H01L23/522(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I 主分类号 H01L27/02(2006.01)I
代理机构 北京德恒律师事务所 11306 代理人 陆鑫;房岭梅
主权项 一种集成电路,包括:电容器,所述电容器包括:衬底;电容器介电层,位于所述衬底的主表面上,所述电容器介电层中具有第一凹槽和第二凹槽;第一半导体鳍片,延伸自所述衬底的主表面,位于所述第一凹槽内;第一电容器电极,位于所述第一凹槽内和所述第一半导体鳍片的顶上;第二半导体鳍片,延伸自所述衬底的所述主表面并位于所述第二凹槽内;以及第二电容器电极,位于所述第二凹槽内和所述第二半导体鳍片的顶上。
地址 中国台湾新竹
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