金属光栅的制备方法

主权项

一种金属光栅的制备方法，其包括以下步骤：提供一基底；在所述基底的表面设置一金属层；在所述金属层远离基底的表面设置一图形化的掩模层，所述图形化的掩模层覆盖所述金属层表面的部分区域，并暴露所述金属层表面的其余区域，所述图形化的掩模层包括依序层叠设置的第一掩模层及第二掩模层，所述第二掩模层由能够减少第一掩模层的奈米图案的失真，保证第一掩模层的奈米图案的解析度和保真度的HSQ、SOG或其他有机矽类低聚物构成；用物理性蚀刻气体和反应性蚀刻气体同时蚀刻所述金属层表面的其余区域，使所述金属层表面形成复数凹槽；以及去除所述图形化的掩模层，得到栅高超过200奈米且深宽比超过4：1的矩形金属光栅。