发明名称 薄膜框及其制造方法
摘要
申请公布号 TWI505020 申请公布日期 2015.10.21
申请号 TW102142083 申请日期 2013.11.19
申请人 日本轻金属股份有限公司 发明人 田口喜弘;山口幸;小泉慎吾;饭塚章;古贺圣和;谷津仓政仁
分类号 G03F1/64;C22C21/00;C22F1/053;C25D11/04;C25D11/06;C22F1/00 主分类号 G03F1/64
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项 一种薄膜框,系于由Al-Zn-Mg系铝合金所成之铝框材的表面,具备阳极氧化皮膜的薄膜框,其特征为:铝框材,系具有Mg2Si晶化物的等效圆直径为7μm以下,并且等效圆直径1μm以上的Mg2Si晶化物所占面积比为未满0.10%,且AlCuMg晶化物、Al-Fe系晶化物及Al2CuMg晶化物的等效圆直径任一皆为9μm以下,并且等效圆直径1μm以上的AlCuMg晶化物、Al-Fe系晶化物及Al2CuMg晶化物所占面积比的合计为未满0.20%的组织,又,阳极氧化皮膜,系利用作为电解质而包含选自由二羧酸盐及三羧酸盐所成之群中任一种或两种以上的硷性的电解液,来进行阳极氧化处理所得者。
地址 日本