发明名称 沉积薄膜之设备及方法
摘要
申请公布号 TWI504778 申请公布日期 2015.10.21
申请号 TW099131804 申请日期 2010.09.17
申请人 OTB太阳能有限公司 发明人 丁恩 法兰西斯 康恩理斯;凡 乔温 比约恩;博世 罗朗 可尼里斯 马利亚
分类号 C23C16/513;C23C16/54 主分类号 C23C16/513
代理机构 代理人 黄志扬 台北市中山区长安东路1段23号10楼之1
主权项 一种薄膜沉积组件(100),包括:一沉积腔室(102),其包含至少一膨胀热电浆来源(104),该膨胀热电浆来源建构为产生一电浆羽(116);一基板传送系统(122),建构为沿着具有一基板传送路径方向(T)的一基板传送路径(126)传送至少一基板(120)通过该电浆羽(116);以及一遮罩(128),在操作过程中该遮罩(128)至少部份曝露于该电浆羽(116)中,且该遮罩(128)成形为用以遮蔽该基板传送路径(126)之一部位(127)以避免在该部位(127)上进行沉积;该遮罩(128)仅在该电浆羽(116)的下游半部或上游半部中延伸;该电浆羽包含多个沉积区域(130a、130b、130c),每个沉积区域具有一与相邻沉积区域相异之化学成分的相对组成;其中该基板传送路径之该遮蔽部位于该基板传送路径方向(T)延伸且架接在至少一第一沉积区域(130a、130b)上,同时该遮蔽部位的一末端位于一第二沉积区域中(130c)。
地址 荷兰