发明名称 微细抗蚀图案形成用组合物以及使用其的图案形成方法
摘要 本发明提供一种组合物以及使用该组合物的图案形成方法,该组合物可形成没有表面皲裂、桥连缺陷或者未析像等不良现象的微细的负型光致抗蚀图案。一种微细图案形成用组合物,其通过应用于使用化学放大型抗蚀组合物而形成出的负型抗蚀图案,使抗蚀图案变粗而将图案进行微细化。该组合物包含在重复单元中含有氨基的聚合物或聚合物混合物以及溶剂,并且进一步包含特定量的酸,或者显示特定的pH。而且,聚合物混合物包含根据汉森溶解度参数而确定的HSP距离为3以上的多种聚合物。将该组合物涂布于由有机溶剂显影液进行显影而获得的负型光致抗蚀图案,并进行加热,从而形成微细的图案。
申请公布号 CN104995564A 申请公布日期 2015.10.21
申请号 CN201480008277.7 申请日期 2014.02.26
申请人 AZ电子材料(卢森堡)有限公司 发明人 山本和磨;宫本义大;关藤高志;长原达郎
分类号 G03F7/40(2006.01)I;G03F7/038(2006.01)I;G03F7/32(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I 主分类号 G03F7/40(2006.01)I
代理机构 北京三幸商标专利事务所(普通合伙) 11216 代理人 刘淼
主权项 一种组合物,其为用于通过应用于使用化学放大型抗蚀组合物而形成出的负型抗蚀图案,使抗蚀图案变粗而将图案进行微细化的微细图案形成用组合物,其特征在于包含:在重复单元中包含氨基的聚合物、溶剂、以及以所述聚合物的重量为基准超过50重量%的酸。
地址 卢森堡