一种刻蚀装置及刻蚀方法

摘要

本发明公开了一种刻蚀装置及刻蚀方法，主要内容包括：在现有的刻蚀装置的基础上，增设一微波源，使得该微波源在槽底所在水平面上的正投影覆盖所有喷嘴在槽底所在水平面上的正投影，待刻蚀的基板上的刻蚀液中的水分子可以吸收微波能量，使得倾斜面下方的刻蚀液的搅拌速度加快，进而弥补由于基板刻蚀液浓度不一致而导致的刻蚀反应程度不均一的问题，保证基板刻蚀效果均一。

主权项

一种刻蚀装置，包括：刻蚀液回收槽，在所述刻蚀液回收槽上方与所述刻蚀液回收槽呈预设角度倾斜设置的至少两个传送滚轮，以及位于任意一个所述传送滚轮上方且与所述传送滚轮平行设置的至少一排喷嘴，其特征在于，还包括：与刻蚀液回收槽的槽底平行设置的一微波源，所述微波源在所述槽底所在的水平面上的正投影覆盖所有喷嘴在所述槽底所在的水平面上的正投影。