| 发明名称 |
AQUEOUS DISPERSION FOR CHEMICAL MECHANICAL POLISHING AND CHEMICAL MECHANICAL POLISHING METHOD |
| 摘要 |
<p>본 발명에 따른 화학 기계 연마용 수계 분산체는 (A) 실리카 입자, 및 (B1) 유기산을 함유하는 화학 기계 연마용 수계 분산체로서, 상기 (A) 실리카 입자는 ICP 발광 분석법 또는 ICP 질량 분석법에 의한 원소 분석 및 이온 크로마토그래피법에 의한 암모늄 이온의 정량 분석으로부터 측정되는 나트륨, 칼륨 및 암모늄 이온의 함유량이 나트륨의 함유량: 5 내지 500 ppm, 칼륨 및 암모늄 이온으로부터 선택되는 1종 이상의 함유량: 100 내지 20000 ppm의 관계를 만족시키는 화학적 성질을 갖는다.</p> |
| 申请公布号 |
KR101562416(B1) |
申请公布日期 |
2015.10.21 |
| 申请号 |
KR20107017432 |
申请日期 |
2009.01.16 |
| 申请人 |
제이에스알 가부시끼가이샤 |
发明人 |
시다, 히로타카;시미즈, 다카후미;이케다, 마사토시;구보우치, 쇼;시바타, 요스케;우치쿠라, 가즈히토;다케무라, 아키히로 |
| 分类号 |
H01L21/304 |
主分类号 |
H01L21/304 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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