电浆处理中之空间分辨电浆发射光谱

主权项

一种用于判定电浆光发射之空间分布的方法，包括： 在一电浆处理腔室内激发一电浆，该电浆处理腔室具有一电浆光发射量测系统，该电浆光发射量测系统具有用于控制该电浆光发射量测系统的一控制器； 使用该电浆光发射量测系统，量测沿着穿过该电浆处理腔室之N个不重合射线所积分的N个电浆发射光谱，其中N＞1，各个测得的发射光谱包含M个波长，其中M≧1； 使用该控制器选定包含有N个基底函数之和的一光强度分布函数，其中，该N个基底函数中的至少一者随着该电浆处理腔室内部的径向位置与圆周位置两者变化，且其中该N个基底函数的每一者与一拟合参数相关联；以及 使用该控制器，藉由拟合选定之该光强度分布函数的N个拟合参数，而针对该M种波长的每一者判定电浆光发射的空间分布以将选定的该光强度分布函数拟合至N个测得的电浆发射光谱。