发明名称 一种转轴定位机构及应用该转轴定位机构的华夫炉
摘要 本实用新型提供了一种转轴定位机构和应用该定位机构的华夫炉,该转轴定位机构包括转轴、座体、定位件和设置在座体上的定位装置,座体上设有与转轴配合的座体轴孔,定位件安装在转轴上;定位件的外侧设有定位凸起,定位凸起上设有定位孔;定位装置设有两个以上并布置在定位件的外侧,定位装置包括两个定位珠,两个定位珠的弹性抵顶端相对设置,两个定位珠分布在定位凸起沿转轴轴向的两侧,两个定位珠设在定位孔随转轴旋转形成的圆形轨迹上,两个定位珠的弹性抵顶端的相对距离小于定位凸起沿定位孔轴向的厚度。与现有技术相比,本实用新型的转轴定位机构和华夫炉,具有结构简单、安装方便、盘体定位准确和旋转顺畅的优点。
申请公布号 CN204716736U 申请公布日期 2015.10.21
申请号 CN201520406243.5 申请日期 2015.06.12
申请人 徐国仪 发明人 徐国仪
分类号 F16C11/10(2006.01)I;A21B3/00(2006.01)I 主分类号 F16C11/10(2006.01)I
代理机构 广州圣理华知识产权代理有限公司 44302 代理人 顿海舟;陈业胜
主权项 一种转轴定位机构,其特征在于:包括转轴、座体、定位件和设置在座体上的定位装置,所述座体上设有与所述转轴配合的座体轴孔,所述定位件安装在所述转轴上;所述定位件的外侧设有定位凸起,所述定位凸起上设有定位孔;所述定位装置设有两个以上并布置在定位件的外侧,所述定位装置包括两个定位珠,所述两个定位珠的弹性抵顶端相对设置,所述两个定位珠分布在定位凸起沿转轴轴向的两侧,所述两个定位珠设在定位孔随转轴旋转形成的圆形轨迹上,两个定位珠的弹性抵顶端的相对距离小于所述定位凸起沿定位孔轴向的厚度。
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