用于光刻的高深宽比模板、制作相同模板的方法、以及这种模板在纳米级基板射孔中的应用

摘要

本发明涉及模板和制作高深宽比模板、印章的方法；和使用以光刻为目的的纳米结构以进行纳米级压印；和使用所述模板在材料和产品上创建穿孔。

主权项

一种模板，其特征在于，包括：底层基板；沉积在所述底层基板上的催化层，从确定光刻形貌的所述催化层生长的纳米结构，所述纳米结构的深宽比受纳米结构的生长所控制，所述纳米结构的至少一个具有的强度足以维持所述纳米结构在垂直压力下的所述光刻形貌，其中所述模板包括生长的纳米结构丛，在所述模板用于纳米压印光刻时所述纳米结构丛产生连续凹陷。