摘要 |
<p>본 발명은 챔버의 열팽창으로 인한 안테나 부품의 파손을 방지할 수 있도록 한 플라즈마 처리장치에 관한 것으로, 플라즈마 처리장치는 반응공간을 제공하는 공정챔버; 상기 공정챔버 내에 설치되어 기판을 지지하는 기판 지지수단; 상기 공정챔버를 관통하여 상기 공정챔버 내부의 상부에 설치된 안테나; 상기 안테나를 절연하는 안테나 절연체; 및 상기 공정챔버의 열팽창에 따라 수축 또는 팽창되도록 상기 공정챔버와 상기 안테나 절연체 사이에 설치된 실링수단을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 한다.</p> |